Strzelcy Fujifilm z serii X wreszcie dostają odpowiedni teleobiektyw i trwają prace nad szeregiem nowego szkła
Autor:Tim Barribeau | Opublikowano 17 kwietnia 2013 o 19:11 EDT
Możemy uzyskiwać przychody z produktów dostępnych na tej stronie i uczestniczyć w programach partnerskich. Dowiedz się więcej ›
Seria Fujifilm X jest wciąż raczkująca w świecie aparatów fotograficznych, więc nie ma zbyt wielu opcji obiektywów. Jednak zgodnie z nowym planem rozwoju obiektywów liczba ta będzie rosnąć, zaczynając od świeżo ogłoszonego obiektywu FUJINON XF55-200mm F3.5-4.8 R LM OIS dla X-Pro1 i X-E1.
Nowy obiektyw jest odpowiednikiem 83–300 mm, a Fujifilm twierdzi, że system stabilizacji obrazu umożliwi fotografowanie nawet o 4,5 stopnia wolniej niż w przypadku obiektywu niestabilizowanego. Model XF55-200mm jest wyposażony w dwa silniki liniowe AF, dwie soczewki ED i jedną soczewkę Super ED oraz opatentowaną powłokę HT-EBC na całej powierzchni soczewki. Ma minimalną odległość ostrzenia wynoszącą 1,1 m i w pełni funkcjonalny pierścień przysłony.
Obiektyw ten stanowi część nowego planu Fujifilm mającego na celu wypuszczenie większej liczby obiektywów do serii X. Model XF55-200mm to piąty obiektyw dostępny bezpośrednio w firmie Fujifilm, obok dwóch niedawno ogłoszonych obiektywów firmy Zeiss. Nowo zaktualizowany plan działania obejmuje kolejnych pięć obiektywów zaplanowanych do 2014 roku, cztery od Fujifilm i jeden od Zeissa. Oto jak Fujifilm opisuje nowe obiektywy:
Oprócz nowego obiektywu i planu działania Fujifilm wypuszcza także nowe oprogramowanie sprzętowe dla aparatów X-Pro1 i X-E1, które będzie dostępne w lipcu tego roku i „maksymalizuje korzyści płynące z obiektywów XF i umożliwia aparatom szybkie wyszukiwanie kontrastowego AF w całym zakresie ogniskowej. Szybkość ustawiania ostrości wyniesie zaledwie 0,7 sekundy, nawet w przypadku wyszukiwania od nieskończoności do MOD po stronie teleobiektywu”.